NEWS

지난 2020년 10월 28일, 

자이온프로세스가 2019년 5월 30일에 출원하였던 

양자 암호화 시스템 및 그것을 이용한 홍채 패턴 데이터의 양자 암호화 방법에 대한 

특허 등록이 완료되었습니다.

(▲ 자이온프로세스의 특허증.)

본 발명에 따른 양자 암호화 시스템을 이용한 홍채 패턴 데이터의 양자 암호화 방법에 있어서,

홍채를 인식하기 위한 카메라를 이용하여 사용자의 동공 및 홍채를 촬영하는 단계,

상시 촬영된 동공 및 홍채를 각각의 영역별 세그먼트화하는 단계,

상기 세그먼트화된 홍채 영역을 중심으로 좌, 우 경계 영역을 컨볼루션하는 단계,

상기 컨볼루션된 홍채 데이터를 이용하여 홍채의 패턴을 추출하는 단계,

상기 홍채를 n방향 적응성 이차원 필터를 생성하여 잡음 및 떨림을 제거하여 홍채 데이터를 추출하는 단계,

상기 추출된 홍채 데이터를 그래디언트 필터에 적용하여 상기 홍채 데이터의 방향성 패턴을 획득하고,

추출된 방향성 패턴을 상기 홍채 패턴 영역에 적용하는 단계,

그리고 상기 방향성이 적용된 홍채 패턴을 양자 암호화하여 데이터 서버에 저장하는 단계를 포함한다.

본 특허에 대해 궁금해하실 분들을 위해 본 특허의 요약 내용을 기재하였습니다.

더 궁금한 사항이 있으실 경우, master@xionprocess.com으로 연락 부탁드립니다.